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J-GLOBAL ID：202203005516256680

修飾無機ナノシートの製造方法、及び修飾無機ナノシート

Inventor：
宮元 展義

About 宮元 展義

, 
田中 一輝

About 田中 一輝


Applicant, Patent owner：
学校法人福岡工業大学

About 学校法人福岡工業大学


Agent (1)： 今 智司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2021078716
Publication number (International publication number)：2022172665
Application date： May. 06, 2021
Publication date： Nov. 17, 2022
Summary：
【課題】実質的に完全剥離した無機ナノシートのそれぞれを修飾できる修飾無機ナノシートの製造方法、及び修飾無機ナノシートを提供する。 【解決手段】修飾無機ナノシートの製造方法は、無機ナノシートと水とを含む無機ナノシート分散液中で重合開始剤を用いてモノマーを重合させ、モノマーによる分解性ゲルを生成する分解性ゲル生成工程と、分解性ゲルに修飾剤を加え、修飾剤で無機ナノシートを修飾する修飾工程と、分解性ゲルを除去するゲル除去工程とを備える。 【選択図】図1
Claim (excerpt)：
無機ナノシートと水とを含む無機ナノシート分散液中で重合開始剤を用いてモノマーを重合させ、前記モノマーによる分解性ゲルを生成する分解性ゲル生成工程と、 前記分解性ゲルに修飾剤を加え、前記修飾剤で前記無機ナノシートを修飾する修飾工程と、 前記分解性ゲルを除去するゲル除去工程と を備える修飾無機ナノシートの製造方法。
IPC (9)：
C01G 33/00 ,  C09C 3/08 ,  C08F 8/00 ,  C08F 2/44 ,  C08F 292/00 ,  C08K 3/013 ,  C08L 101/14 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00
FI (9)：
C01G33/00 A ,  C09C3/08 ,  C08F8/00 ,  C08F2/44 A ,  C08F292/00 ,  C08K3/013 ,  C08L101/14 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00
F-Term (48)：
4G048AA04 ,  4G048AB02 ,  4G048AB04 ,  4G048AC08 ,  4G048AD01 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08 ,  4J002AA031 ,  4J002BC131 ,  4J002DE236 ,  4J002DJ036 ,  4J002FD016 ,  4J002GD00 ,  4J002GE00 ,  4J002GN00 ,  4J002GQ00 ,  4J011AA05 ,  4J011BA04 ,  4J011PA07 ,  4J011PA13 ,  4J011PB22 ,  4J011PC02 ,  4J011PC08 ,  4J026AC00 ,  4J026BA32 ,  4J026DB08 ,  4J026DB30 ,  4J026DB36 ,  4J026FA09 ,  4J037AA08 ,  4J037CB23 ,  4J037EE02 ,  4J037FF30 ,  4J100AJ02P ,  4J100AM19P ,  4J100AQ01Q ,  4J100BA77H ,  4J100CA01 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100EA03 ,  4J100HA53 ,  4J100HC59 ,  4J100HC77 ,  4J100HC78 ,  4J100JA15 ,  4J100JA24
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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