Pat
J-GLOBAL ID:202203012581588611

ダイヤモンドアンビルとその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 堀田 実 ,  野村 俊博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020204936
Publication number (International publication number):2022092246
Application date: Dec. 10, 2020
Publication date: Jun. 22, 2022
Summary:
【課題】ダイヤモンドアンビルにより試料に超高圧(例えば150GPa程度の圧力)を作用させている状態でダイヤモンドアンビルにX線が長時間照射された場合に、X線の影響でダイヤモンドアンビルが破損することを抑制する 【解決手段】試料を加圧するためのダイヤモンドアンビル20は、ダイヤモンドの本体10と、本体10の表面に形成されたCVDダイヤモンド膜21とを有する。本体10は、試料を配置する箇所に相当する先端面11を有する。CVDダイヤモンド膜21は、本体10の表面において少なくとも先端面11を含む領域に形成されている。 【選択図】図4A
Claim (excerpt):
試料を加圧するためのダイヤモンドアンビルであって、 ダイヤモンドの本体と、前記本体の表面に形成されたCVDダイヤモンド膜とを有する、ダイヤモンドアンビル。
IPC (4):
C30B 29/04 ,  C30B 25/20 ,  C01B 32/28 ,  C23C 16/27
FI (5):
C30B29/04 W ,  C30B29/04 P ,  C30B25/20 ,  C01B32/28 ,  C23C16/27
F-Term (21):
4G077AA03 ,  4G077BA03 ,  4G077DB01 ,  4G077EB01 ,  4G077ED06 ,  4G077HA20 ,  4G077TA04 ,  4G077TK01 ,  4G146AA04 ,  4G146AA17 ,  4G146AB05 ,  4G146AB07 ,  4G146AD36 ,  4G146BC09 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030BA28 ,  4K030CA01 ,  4K030DA03 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • Composite chemical vapor deposition diamond anvils for high-pressure/high-temperature experiments
  • Homoepitaxial diamond film deposition on a brilliant cut diamond anvil

Return to Previous Page