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J-GLOBAL ID:202203013319026145
流動層プラズマ発生装置、及び流動層プラズマ発生方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
棚井 澄雄
, 西澤 和純
, 春田 洋孝
, 荒 則彦
, 酒井 太一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020128454
Publication number (International publication number):2022025559
Application date: Jul. 29, 2020
Publication date: Feb. 10, 2022
Summary:
【課題】プラズマ放電により生成物を生成する際に装置構成を簡略化しつつ、反応性を向上することができる流動層プラズマ発生装置、及び流動層プラズマ発生方法を提供する。
【解決手段】粒子状の原料を収容する容器と、容器内に設けられた第1電極と、容器外に設けられた第2電極と、第1電極と第2電極との間に電圧を加え、容器内の空間に原料の粒子が配置された状態で、空間に放電する電源部と、を備え、粒子は、第1電極と第2電極との間に電圧が加えられた状態において、浮遊して流動する流動層を発生させると共に、流動層において放電される流動層プラズマを発生させるように粒径が調整されている、流動層プラズマ発生装置である。
【選択図】図1
Claim (excerpt):
粒子状の原料を収容する容器と、
前記容器内に設けられた第1電極と、
前記容器外に設けられた第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を加え、前記容器内の空間に原料の粒子が配置された状態で、前記空間に放電する電源部と、
を備え、
前記粒子は、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が加えられた状態において、浮遊して流動する流動層を発生させると共に、前記流動層において放電される流動層プラズマを発生させるように粒径が調整されている、
流動層プラズマ発生装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (24):
2G084AA07
, 2G084AA23
, 2G084AA26
, 2G084BB04
, 2G084BB12
, 2G084CC03
, 2G084CC08
, 2G084CC19
, 2G084DD12
, 2G084DD14
, 2G084DD17
, 2G084DD22
, 4G075AA27
, 4G075BA10
, 4G075BD14
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FB06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
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触媒調製装置及び方法並びに化学反応装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-214772
Applicant:富士通株式会社, 財団法人ファインセラミックスセンター
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特公昭52-020953
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