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J-GLOBAL ID：202203014730865340

口臭抑制成分のスクリーニング方法

Inventor： 原 武史 ,  久保庭 雅惠 ,  天野 敦雄
Applicant, Patent owner： 株式会社マンダム ,  国立大学法人大阪大学
Agent (1)： 弁理士法人G-chemical
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2021048115
Publication number (International publication number)：2022147033
Application date： Mar. 23, 2021
Publication date： Oct. 06, 2022
Summary：

【課題】新規な口臭抑制成分や、より効果の高い口臭抑制成分を探索できる方法を提供する。 【解決手段】 下記工程を含む口臭抑制成分のスクリーニング方法。 被験物質及び口臭原因物質前駆体を含有する培地を用いて、Actinomyces属細菌を培養する工程 上記工程後、培養系中の口臭原因物質前駆体及び/又は口臭原因物質の量を測定して、被験物質の口臭抑制効果を評価する工程 【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記工程を含む口臭抑制成分のスクリーニング方法。 被験物質及び口臭原因物質前駆体を含有する培地を用いて、Actinomyces属細菌を培養する工程 上記工程後、培養系中の口臭原因物質前駆体及び/又は口臭原因物質の量を測定して、被験物質の口臭抑制効果を評価する工程

IPC (3)：

C12Q 1/02 ,  G01N 33/50 ,  G01N 33/15

FI (3)：

C12Q1/02 ,  G01N33/50 Z ,  G01N33/15 Z

F-Term (10)：

2G045AA40 ,  4B063QA01 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ06 ,  4B063QQ20 ,  4B063QQ80 ,  4B063QR49 ,  4B063QR76 ,  4B063QX02 ,  4B063QX10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 口臭除去剤及び口腔用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-290481   Applicant：ライオン株式会社

Cited by examiner (2)

• 口臭抑制成分のスクリーニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2019-058685   Applicant：株式会社マンダム, 国立大学法人大阪大学
• 歯周病菌増殖抑制用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-222116   Applicant：国立大学法人岐阜大学, アピ株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Hydrogen sulfide-producing bacteria in tongue biofilm and their relationship with oral malodour