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J-GLOBAL ID：202203014888894496

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

Inventor： 石島 達夫 ,  森本 健太朗 ,  上杉 喜彦 ,  田中 康規
Applicant, Patent owner： 国立大学法人金沢大学
Agent (1)： 新居 広守
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017095597
Publication number (International publication number)：2018192381
Patent number：7045681
Application date： May. 12, 2017
Publication date： Dec. 06, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 誘電体で構成され、粉粒体を保持する反応容器と、 前記反応容器に設けられた第1電極および第2電極と、 前記反応容器の内面に沿って前記内面との間に空隙を保って回転可能な導電性の攪拌羽根と、 前記攪拌羽根を回転させるモーターと、 前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧またはパルス電圧を印加する電源と、 を備え、 前記攪拌羽根は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられているプラズマ処理装置。

IPC (2)：

B01J 19/08 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01)

FI (2)：

B01J 19/08 J ,  H05H 1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-032940
  
• 粉粒体用プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-370184   Applicant：日本スピンドル製造株式会社