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J-GLOBAL ID：202203017263423435
磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム、磁場影響を考慮した線量分布作成方法、および線量分布作成装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
棚井 澄雄
, 飯田 雅人
, 及川 周
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020185160
Publication number (International publication number)：2022074801
Application date： Nov. 05, 2020
Publication date： May. 18, 2022
Summary：
【課題】従来より高速かつ正確な磁場下で線量計算を可能とする磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム、磁場影響を考慮した線量分布作成方法、および線量分布作成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】磁場影響を考慮した線量分布作成プログラムは、コンピュータに、被験者を磁場と電波または光子線によって撮影させた撮影画像と、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布とを取得させ、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布と、撮影画像に基づく情報と、を用いて事前学習された複数の層から成る学習モデルに、非磁場下の線量分布と、撮影画像に基づく情報とを入力させ、磁場下の線量分布を推定させる。
【選択図】図7
Claim (excerpt)：
コンピュータに、
被験者を磁場と電波または光子線によって撮影させた撮影画像と、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布とを取得させ、
前記非磁場下の線量分布と、前記磁場下の線量分布と、前記撮影画像に基づく情報と、を用いて学習された複数の層から成る学習モデルに、前記非磁場下の線量分布と、前記撮影画像に基づく情報とを入力させ、磁場下の線量分布を推定させる、
磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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