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J-GLOBAL ID:202203018399538011

におい評価装置及びにおい評価方法並びににおい評価用試料調整装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人京都国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020183426
Publication number (International publication number):2022073441
Application date: Nov. 02, 2020
Publication date: May. 17, 2022
Summary:
【課題】分析対象ガスに含まれる成分のにおいを正確に測定できるようにする。 【解決手段】におい評価装置は、においを有する分析対象ガスに含まれる複数の成分を時間方向に分離する分離カラム10を有するガスクロマトグラフ1と、前記複数の成分のそれぞれが前記分離カラムから出てくるタイミングを検出するタイミング検出部2と、前記分析対象ガスを前記分離カラムに通すことにより、前記分離カラムから出てくる成分の全て又は一部を含むガスをサンプルバッグ511に回収するガス回収部5と、前記サンプルバッグに回収されるガスに含まれる成分が前記分離カラムから出てくるタイミングを設定するためのタイミング設定部61、62、63、64と、前記分離カラムと前記サンプルバッグの間を繋ぐ流路に希釈用ガスを導入するガス導入部56とを備える。 【選択図】図1
Claim (excerpt):
においを有する分析対象ガスに含まれる複数の成分を時間方向に分離する分離カラムを有するガスクロマトグラフと、 前記複数の成分のそれぞれが前記分離カラムから出てくるタイミングを検出するタイミング検出部と、 前記分析対象ガスを前記分離カラムに通すことにより、前記分離カラムから出てくる成分の全て又は一部を含むガスをサンプルバッグに回収するガス回収部と、 前記サンプルバッグに回収されるガスに含まれる成分が前記分離カラムから出てくるタイミングを設定するためのタイミング設定部と、 前記分離カラムと前記サンプルバッグの間を繋ぐ流路に希釈用ガスを導入するガス導入部と を備える、におい評価装置。
IPC (7):
G01N 30/88 ,  G01N 30/80 ,  G01N 30/82 ,  G01N 30/72 ,  G01N 30/78 ,  G01N 33/00 ,  G01N 1/00
FI (8):
G01N30/88 G ,  G01N30/80 B ,  G01N30/82 ,  G01N30/72 A ,  G01N30/80 Z ,  G01N30/78 ,  G01N33/00 C ,  G01N1/00 F
F-Term (12):
2G052AA24 ,  2G052AB25 ,  2G052AD02 ,  2G052AD22 ,  2G052AD42 ,  2G052BA17 ,  2G052DA14 ,  2G052FD01 ,  2G052GA23 ,  2G052GA24 ,  2G052GA27 ,  2G052JA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • におい評価装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2016-169554   Applicant:株式会社島津製作所, 国立大学法人岩手大学
  • 呼気分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-078401   Applicant:スズキ株式会社
  • におい測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-102524   Applicant:株式会社島津製作所
Cited by examiner (3)
  • におい評価装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2016-169554   Applicant:株式会社島津製作所, 国立大学法人岩手大学
  • 呼気分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-078401   Applicant:スズキ株式会社
  • におい測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-102524   Applicant:株式会社島津製作所

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