Pat

J-GLOBAL ID：202303001527542865

プラズマによる対象物の処理方法およびシステム

Inventor： 沖野 晃俊 ,  劉 智志 ,  森 結登 ,  中井 一輝
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東京工業大学
Agent (5)： 山本 秀策 ,  森下 夏樹 ,  飯田 貴敏 ,  石川 大輔 ,  山本 健策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2021167633
Publication number (International publication number)：2023057888
Application date： Oct. 12, 2021
Publication date： Apr. 24, 2023
Summary：

【課題】プラズマによる対象物の処理方法、およびその方法を実施するためのシステムの提供。 【解決手段】本開示は、プラズマによる対象物の処理方法を提供し、方法は、プラズマ発生装置の放電部内にガスを供給することと、放電部内でガスからプラズマを発生させるとともに、電磁波を放電部内に照射し、それによって、放電部内に配置された対象物をプラズマおよび電磁波に曝露することとを含む。放電部内で前記ガスからプラズマを発生させることは、大気圧下にある放電部内でガスからプラズマを発生させることを特徴とし得る。 【選択図】図4A

Claim (excerpt)：

プラズマによる対象物の処理方法であって、前記方法は、 プラズマ発生装置の放電部内にガスを供給することと、 前記放電部内で前記ガスからプラズマを発生させるとともに、電磁波を前記放電部内に照射し、それによって、前記放電部内に配置された対象物を前記プラズマおよび前記電磁波に曝露することと を含む、方法。

IPC (6)：

H05H 1/24 ,  A61L 2/14 ,  A61L 2/10 ,  A61L 2/08 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12

FI (7)：

H05H1/24 ,  A61L2/14 ,  A61L2/10 ,  A61L2/08 106 ,  B01J19/08 E ,  B01J19/12 B ,  B01J19/12 C

F-Term (41)：

2G084AA07 ,  2G084AA25 ,  2G084BB03 ,  2G084BB04 ,  2G084BB05 ,  2G084CC03 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084CC15 ,  2G084CC19 ,  2G084CC21 ,  2G084CC23 ,  2G084CC34 ,  2G084DD15 ,  4C058BB06 ,  4C058BB09 ,  4C058DD07 ,  4C058DD11 ,  4C058KK02 ,  4C058KK05 ,  4C058KK06 ,  4C058KK32 ,  4G075AA30 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA33 ,  4G075CA34 ,  4G075CA36 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA05 ,  4G075EB31 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15