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J-GLOBAL ID：202303006148568590

X線回折測定方法およびX線回折測定装置

Inventor： 大和田 謙二 ,  町田 晃彦 ,  押目 典宏 ,  菅原 健人 ,  綿貫 徹
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
Agent (1)： 弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022125870
Publication number (International publication number)：2023169846
Application date： Aug. 05, 2022
Publication date： Nov. 30, 2023
Summary：

【課題】微小結晶粒の安定的なX線回折測定を実現する。 【解決手段】X線回折測定方法は、基板(SB0)の基板面(SF)上に配置される複数の微小結晶粒(CP)から、前記基板面に沿う結晶面(SC)を有する微小結晶粒を探索する探索工程と、前記探索された微小結晶粒をX線回折測定する測定工程と、を有する。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板の基板面上に配置される複数の微小結晶粒から、前記基板面に沿う結晶面を有する微小結晶粒を探索する探索工程と、 前記探索された微小結晶粒をX線回折測定する測定工程と、 を有する、X線回折測定方法。

IPC (2)：

G01N 23/207 ,  G01N 23/20

FI (2)：

G01N23/207 ,  G01N23/20

F-Term (6)：

2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA08 ,  2G001MA04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• X線回折測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2019-198540   Applicant：パルステック工業株式会社