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J-GLOBAL ID：202103020788198843

X線回折測定装置

Inventor：
鈴木 哲也

About 鈴木 哲也


Applicant, Patent owner：
パルステック工業株式会社

About パルステック工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019198540
Publication number (International publication number)：2021071401
Application date： Oct. 31, 2019
Publication date： May. 06, 2021
Summary：
【課題】 測定対象物のX線照射点において発生する回折X線により形成されるX線回折像の、回折X線の強度分布に基づく特性値を測定するX線回折測定装置において、測定対象物の結晶粒が大きい場合でも特性値の測定精度が悪くならないようにする。【解決手段】 X線回折測定装置は、X線管10から出射したX線を入射し通過させて出射する多数の細束管の集合体であるポリキャピラリ14を備える。ポリキャピラリ14から出射したX線は、シンチレーションカウンタ21-1〜21-4のX線入射面付近に設定した、所定の円の箇所における回折X線の強度がピークになる回折X線の発生点で集光する。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
対象とする測定対象物に向けてX線を出射するX線出射機構と、 前記X線出射機構から出射されるX線が測定対象物に照射されたとき、前記測定対象物にて発生する回折X線の強度を検出する複数のX線検出センサであって、前記回折X線を入射又は受光する検出箇所が、前記X線出射機構から出射されるX線の光軸上の点を中心にした前記X線の光軸に垂直な平面内における所定の円の円周位置付近になるとともに、前記中心からの距離がそれぞれ異なるように配置されている複数のX線検出センサと、 前記それぞれのX線検出センサにおける前記検出箇所の前記中心からの距離又は前記中心からの距離の大小が記憶され、前記中心からの距離順に前記それぞれのX線検出センサが検出した回折X線の強度を並べたときの強度変化が、前記所定の円の1つの円周位置における半径方向の回折X線の強度変化として、前記強度変化に基づく特性値を計算する評価手段とを備えたX線回折測定装置において、 前記X線出射機構は、内部でX線を発生させて出射口よりX線を出射させるX線管と、前記X線管から出射したX線を入射し通過させて出射する多数の細束管の集合体であるポリキャピラリとを備え、 前記ポリキャピラリは、前記多数の細束管から出射したX線が、前記所定の円の箇所における回折X線の強度がピークになる回折X線の発生点で集光するように、前記多数の細束管が構成されていることを特徴とするX線回折測定装置。
IPC (1)：
G01N 23/200
FI (1)：
G01N23/20008
F-Term (16)：
2G001AA01 ,  2G001AA07 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001CA07 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001GA05 ,  2G001GA11 ,  2G001JA11 ,  2G001JA12 ,  2G001KA03 ,  2G001LA02 ,  2G001PA11 ,  2G001SA02 ,  2G001SA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • X線回折測定システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-248615   Applicant：パルステック工業株式会社
  • X線光学系
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-276135   Applicant：株式会社リガク
  • X線分析装置及びX線分析方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-331546   Applicant：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
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