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J-GLOBAL ID：202303006217711111

応力記録材料、応力記録構造、応力記録体、応力記録体形成剤、応力記録塗膜形成塗料、応力記録方法及び応力記録システム

Inventor： 徐 超男
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (2)： 松尾 憲一郎 ,  市川 泰央
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022031157
Publication number (International publication number)：2023127388
Application date： Mar. 01, 2022
Publication date： Sep. 13, 2023
Summary：

【課題】化学反応による暗反応の影響が無く、定量性や長期記録保持性に優れ、また、残光を観察するのみで応力の付与を事後的に知ることのできる応力記録材料を提供する。 【解決手段】一般式Li x Na y NbO 3+(x+y-1)/2+Σ(zk*Lk/2) :M1 z1 ,M2 z2 ,M3 z3 (ただし、M1はレアアースイオン及び遷移金属イオンから選ばれるいずれか1種の金属イオンであり、M2又はM3はnone又はレアアースイオン及び遷移金属イオンから選ばれるいずれか1種の金属イオンであり、zkはz1~z3を一般化した表現であり、LkはM1のイオンの価数L1、M2のイオンの価数L2、M3のイオンの価数L3を一般化した表現であり、M2がnoneの場合はz2は0であり、M3がnoneの場合はz3は0である。)で表される組成を有し、x=0.02~2であり、y=0.01~1であり、z1+z2+z3=0.0001~0.2であることとした。 【選択図】図6

Claim (excerpt)：

一般式Li x Na y NbO 3+(x+y-1)/2+Σ(zk*Lk/2) :M1 z1 ,M2 z2 ,M3 z3 (ただし、M1はレアアースイオン及び遷移金属イオンから選ばれるいずれか1種の金属イオンであり、M2又はM3はnone又はレアアースイオン及び遷移金属イオンから選ばれるいずれか1種の金属イオンであり、zkはz1~z3を一般化した表現であり、LkはM1のイオンの価数L1、M2のイオンの価数L2、M3のイオンの価数L3を一般化した表現であり、M2がnoneの場合はz2は0であり、M3がnoneの場合はz3は0である。)で表される組成を有し、x=0.02~2であり、y=0.01~1であり、z1+z2+z3=0.0001~0.2である応力記録材料。

IPC (3)：

G01L 1/00 ,  G01L 1/24 ,  C09K 11/78

FI (3)：

G01L1/00 E ,  G01L1/24 Z ,  C09K11/78

F-Term (7)：

4H001CA04 ,  4H001XA03 ,  4H001XA08 ,  4H001XA11 ,  4H001XA41 ,  4H001XA59 ,  4H001XA60

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 応力記録体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-176606   Applicant：大阪瓦斯株式会社