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J-GLOBAL ID:202403006652374531

ホウ素化合物、およびそれを用いた水素化物、重合体ならびに付加体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山尾 憲人 ,  福政 充睦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2023185532
Publication number (International publication number):2024081595
Application date: Oct. 30, 2023
Publication date: Jun. 18, 2024
Summary:
【課題】 高濃度の一酸化炭素および/又は二酸化炭素が共存する条件下においても、水素化反応における触媒被毒が抑制され、より温和な反応条件で、又はより厳しい反応条件で、より広範な組成を有する粗水素ガスを使用して、より高活性で、より高選択的に反応を進行させる触媒等として使用でき、より取り扱いに優れるホウ素化合物を提供する。 【解決手段】 式(1)で表されるホウ素化合物。式(1)において、X 1 及びX 2 は、各々独立して臭素及びヨウ素から選択される。 【化1】 JPEG 2024081595000017.jpg 25 40 【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記式(1)で表されるホウ素化合物。
IPC (12):
C07F 5/02 ,  B01J 31/02 ,  C07C 33/18 ,  C07C 29/141 ,  C07C 33/20 ,  C07C 33/30 ,  C07C 33/025 ,  C07C 33/28 ,  C07C 69/76 ,  C07C 67/31 ,  C07C 65/01 ,  C07C 51/367
FI (13):
C07F5/02 A ,  B01J31/02 Z ,  C07C33/18 ,  C07C29/141 ,  C07C33/20 ,  C07C33/30 ,  C07C33/025 ,  C07C33/28 ,  C07C69/76 Z ,  C07C67/31 ,  C07C65/01 ,  C07C51/367 ,  C07F5/02 C
F-Term (27):
4G169AA06 ,  4G169AA08 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BD01B ,  4G169BD03B ,  4G169BD04B ,  4G169BD13B ,  4G169BD15B ,  4G169CB02 ,  4G169CC02 ,  4G169DA02 ,  4G169FA01 ,  4G169FA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA31 ,  4H006FC52 ,  4H006FC54 ,  4H006FE11 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AB40 ,  4H048VA11 ,  4H048VA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 不飽和化合物の水素化方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2016-100976   Applicant:株式会社日本触媒
  • 特許第7079696号

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