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J-GLOBAL ID：200902002766355174   整理番号：96A0120676

今後の主要な最新イオン応用分野 イオンと他の融合プロセス・装置 (日本機械工業連合会S)

Future main field of the latest ion application.Fusion process of ion and other items and equipment.( Sponsor : Japan Machinery Federation ).
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著者 (3件)：
平尾孝

平尾孝 について

(松下電器産業 中研)

松下電器産業 中研 について

, 
筒井一生

筒井一生 について

(東京工大 大学院 総合理工学研究科)

東京工大 大学院 総合理工学研究科 について

, 
佐々木茂雄

佐々木茂雄 について

(三菱電機 生産技研)

三菱電機 生産技研 について


資料名：
イオン応用真空機器の技術動向調査報告書 平成3年度

イオン応用真空機器の技術動向調査報告書 平成3年度 について


ページ： 100-107  発行年： 1992年 
JST資料番号： N19952377  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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基板上に強誘電体薄膜や超電導体薄膜を形成するためのイオン/光...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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薄膜成長

薄膜成長 について

,...
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分類 (3件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

,  固体デバイス材料 
(NC03020K)

固体デバイス材料 について

,  固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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イオン

イオン について

, 
応用

応用 について

, 
融合

融合 について

, 
プロセス

プロセス について


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