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J-GLOBAL ID:201602241522741482   整理番号:16A1007721

Pt/Pd(111)バイメタル系の明確な表面構造および界面構造についてのORR活性および電気化学的安定性

ORR activity and electrochemical stability for well-defined topmost and interface structures of the Pt/Pd(111) bimetallic system
著者 (5件):
資料名:
巻: 212  ページ: 822-827  発行年: 2016年09月10日 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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明確な表面構造および表面下構造を有するPt/Pd(111)モデル電極触媒の酸素還元反応(ORR)活性および電気化学的安定性を調べた。超高真空(UHV)で,x(x-Pty nm/Pd(111),x=573Kまたは673K,y=0.6または1.2)の基板温度において,清浄なPd(111)上でPtの真空析出により,Pt/Pd(111)バイメタル表面を調製した。反射高エネルギー電子回折パターンおよびUHV走査トンネル顕微鏡画像から,Ptが上記のPt析出条件の下でPd(111)基板上にエピタキシャル成長したことを明らかにした。高い基板温度は,基板Pd原子による析出Ptの熱拡散をもたらした。Heイオン散乱分光法(ISS)を用いて573K-Pt0.6nm/Pd(111)の最表面のPt原子比を95%と推定した。これは,673K-Pt0.6nm/Pd(111)より8%大きかった。573K-Pt0.6nm/Pd(111)表面と673K-Pt0.6nm/Pd(111)表面のORR活性は,それぞれ清浄Pt(111)の6.3倍と3.6倍であり,活性は,最表面Pt原子比に高い感度を有した。さらに,電位サイクル負荷(0.6V~1.0V)下で評価した573K-Pt0.6nm/Pd(111)の電気化学的安定性は,673K-Pt0.6nm/Pd(111)より優れていた。安定性は,表面Pt原子比から起こるだけでなく,PtとPdの熱拡散によって測定される有効なPt-シェル厚さにも起因することを,対応するISSスペクトルによって判定した表面の深さプロファイルで示唆した。さらに,Ptの厚さを0.6nmから1.2nmに増加することにより,電気化学的安定性を改善した。573K-Pt1.2nm/Pd(111)は,2000電位サイクルの後でさえ,活性対清浄Pt(111)の5倍以上維持した。一方,573K-Pt0.6nm/Pd(111)は,清浄Pt(111)の初期活性と同じであった。原子レベルの構造Pt-Pdバイメタル合金表面で,実際のPd-Ptコア-シェル触媒のORR活性および電気化学的安定性を測定できることを,この研究で得られた結果により示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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燃料電池  ,  金属の結晶構造 

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