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J-GLOBAL ID：201702215356841162   整理番号：17A0445641

金属管取付具を用いた工業部品のプラズマ浸漬イオン注入(PIII)と堆積(PIII&D)の新しい可能性【Powered by NICT】

New possibilities of plasma immersion ion implantation (PIII) and deposition (PIII&D) in industrial components using metal tube fixtures

著者 (10件)： Ueda M. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Silva A.R. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Silva A.R. (Associated Laboratory of Sensors and Materials, National Institute for Space Research, SP, Brazil) ,  Pillaca E.J.D.M. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Mariano S.F.M. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Mariano S.F.M. (Associated Laboratory of Sensors and Materials, National Institute for Space Research, SP, Brazil) ,  Rossi J.O. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Oliveira R.M. (Associated Laboratory of Plasma, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil) ,  Pichon L. (Institut Pprime -UPR 3346 CNRS-Universite de Poitiers-ENSMA, Poitiers, France) ,  Reuther H. (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 312  ページ： 37-46  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： バッチモードで工業部品を処理するためのプラズマ浸漬イオン注入(PIII)および堆積(PIII&D)の新しい可能性を明らかにした。金属管状固定具を管周辺とに沿った内部成分を割り当てる際に使用,注入されたであろうことを各成分の一部のみプラズマに曝露した。ホロー陰極のようなプラズマは所望のガスを充填した管の内部でのみ発生した,真空容器壁からの絶縁中空円筒金属固定具に負の高電圧パルスを印加することである。工作物を負荷した金属管(Me管)は立ち上がり,上下または横臥配置における真空容器内装置である。PIII試験も,管に及ぼす金属シート蓋なし並びにと成分なしで行った。スパッタリング蒸着と浸炭窒化はチューブ内のカーボンテープを配置し,窒素PIIIプロセスを実行することによってこの方式でも可能である。比較的きれいなDLC(Diamond Like Carbon)PIII&Dこの方法により成長が可能であるプラズマは主に占めているMe管内部と全室ないので。,高電圧パルス発生器を用いて,付加的なプラズマ源なしで運転高密度PIIIとPIII&Dシステムは三次元部品を処理することが可能である。これらの方法は,イオン注入による工業部品のバッチ処理とイオン注入及び堆積,多数の中小部品へのは,PIIIとPIII&Dにより処理し,非常に迅速に,効率的にできる,低コストでも非常に便利である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 固定具 ,  窒素 ,  中空円筒 ,  三次元 ,  *プラズマ ,  パルス発生器 ,  *イオン注入 ,  スパッタ蒸着 ,  ホロー陰極 ,  プラズマ源 ,  工作物 ,  *金属管 ,  バッチ処理 ,  真空容器
準シソーラス用語： 高電圧パルス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： プラズマ浸漬イオン注入 ,  プラズマ浸漬イオン注入及び蒸着 ,  金属管固定具 ,  バッチ処理 ,  産業成分 ,  ホロー陰極プラズマ

分類 (2件)： 金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 金属管 ,  取付具 ,  工業部品 ,  プラズマ浸漬イオン注入 ,  PIII ,  堆積 ,  可能性