文献

J-GLOBAL ID：201702216141166959   整理番号：17A0695874

力モードのディップペンナノリソグラフィーにおける力変動

Force Drift in Force Mode Dip-Pen Nanolithography

著者 (9件)： YANG Haijun (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  ZHANG Chen (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  ZHANG Jinjin (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  ZHANG Donghua (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  HU Jun (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  HAN Zhongkang (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN) ,  WANG Huabin (Chongqing Inst. Green and Intelligent Technol., Chinese Acad. Sci., Chongqing, CHN) ,  WANG Huabin (Univ. Melbourne, VIC, AUS) ,  HOU Zhengchi (Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 16  号： 7  ページ： 7030-7036  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)ベースのナノリソグラフィーの応用拡大に鑑みて,本研究では,力モードディップペンナノリソグラフィー(FMDPN)における特性を,実験研究によって調べた。著者らは,力曲線とタッピングモード偏向信号との解析に基づいて,FMDPNの間における力変動を詳細に調べた。本研究結果は,固体基板上でのミクロ構造およびナノ構造の作製において,DPN技術の適切な利用を支援することを記した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *モード ,  *原子間力顕微鏡 ,  変動 ,  力 ,  分子 ,  ポリジメチルシロキサン ,  生体分子 ,  タッピングモードAFM
準シソーラス用語： 力モード ,  *ディップペンナノリソグラフィー ,  タッピングモード原子間力顕微鏡

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 力 ,  ディップペンナノリソグラフィー