文献
J-GLOBAL ID:201702220016641827   整理番号:17A0279998

Fe変調ドープと無作為にドープされたGaNバッファを持つサファイア上に成長させたGaN/AlGaN/AlN/GaNH EMTの比較:材料成長と素子作製【Powered by NICT】

Comparison of GaN/AlGaN/AIN/GaN HEMTs Grown on Sapphire with Fe-Modulation-Doped and Unintentionally Doped GaN Buffer: Material Growth and Device Fabrication
著者 (7件):
資料名:
巻: 33  号: 11  ページ: 117303-1-117303-5  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1191A  ISSN: 0256-307X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Fe変調ドープ(MD)と非意図的ドープ(UID)GaNバッファ層上に成長させたAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ(HEMT)を調べ,比較した。高抵抗GaNバッファ(109 cm)は電子トラップ’形成のための個々の機構により誘導される:Fe MD緩衝液(試料A)と高密度刃状転位(7.24×10~9cm( 2),試料B)のUIDバッファ。300K Hall試験はFeドーピング(2503cm~2V ( 1)/2( 1))をもつ試料Aの移動度は二次元電子ガスで減少した散乱効果であるため,試料B(1926cm~2V ( 1)/2( 1))よりもはるかに高いことを示した。HEMT素子は,二試料上に作製し,パルスI-V測定を行った。デバイスAは良好なゲートピンチオフ特性とデバイスB( 3.71 V)と比較して,より高いしきい値電圧( 2.63 V)を示した。デバイスA(3.32×10 ( 7)A)の下部ゲート漏れ電流I(GS)は装置B(8.29×10 ( 7)A)のそれと比較して存在した。オフ状態静止点Q_2(V(GQ2)= 8V,V(D Q2)=0V)に場合,V(th)はデバイスAのためのシフトはほとんどデバイスBは+0.21V正の閾値電圧シフトを示し,ゲート下のUID GaNバッファ層中の転位に関連した電子トラップの存在に起因する。パルスI-Vと相互コンダクタンスG_m V(GS)測定で,Fe MDをドープしたバッファをもつデバイスは,オフ状態ストレスによる信頼性を改善に可能性を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る