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J-GLOBAL ID：201702224207040718   整理番号：17A0226347

グラフェンとa-SiO₂の間の超強接着の力学的成因:van der Waalsを越える

Mechanistic Origin of the Ultrastrong Adhesion between Graphene and a-SiO₂: Beyond van der Waals

著者 (3件)： KUMAR Sandeep (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA) ,  PARKS David (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA) ,  KAMRIN Ken (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 10  号： 7  ページ： 6552-6562  発行年： 2016年07月 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マルチスケールモデリングベース手法を用いてグラフェンとa-SiO₂基板の間の界面接着に関する力学的洞察を得た。提示した手法はさまざまなナノスケール接着/接触実験の解析とともに連続体FEAと原子論的分子動力学の両シミュレーションの結果を結びつけた。FEAシミュレーションの結果は実験観察と一致せず,グラフェン/a-SiO₂界面の接着がこれまで信じられてきたvan der Waals力のみに帰しないことを示した。グラフェン/a-SiO₂界面接着は多数の長さ規模での相互作用から成った。微視的な点状の相互作用に基づく強い固着効果が二つの面の間の超強接着とその高い剪断力の原因であることを明らかにした。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *接着 ,  *酸化ケイ素 ,  van der Waals力 ,  計算機シミュレーション ,  モデリング ,  規模 ,  数値解析 ,  相互作用 ,  メカノ化学
準シソーラス用語： ナノスケール ,  マルチスケールモデリング ,  *界面接着 ,  分子動力学シミュレーション ,  有限要素解析

分類 (1件)： 固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (5件)： グラフェン ,  SiO2 ,  力学 ,  成因 ,  VAN