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J-GLOBAL ID：201702226436159451   整理番号：17A0289848

ラスタ走査マルチビームマスクリソグラフィのためのソフトウェアベースのデータ

Software-based Data Path for Raster-scanned Multi-beam Mask Lithography

著者 (6件)： RAJAGOPALAN Archana (Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND) ,  AGARWAL Ankita (Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND) ,  BUCK Peter (Mentor Graphics Corp., OR, USA) ,  GELLER Paul (Applied Materials Inc., OR) ,  HAMAKER H.Christopher (Applied Materials Inc., OR) ,  RAO Nageswara (Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9985  ページ： 998519.1-998519.9  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトマスクのほぼ半分が,レーザマスクパターン生成(LMPG)リソグラフィーを用いて製造されている。この論文は,マルチビームレーザマスクリソグラフィーをサポートするために適した発展,スケーラブルソフトウェアデータパスシステムの動機,要求,設計と性能に関して述べる。ハードウェアベースのデータパスアーキテクチャをソフトウェアで置き換えると,データ容量が追加され,発展オンツールマスクプロセス補正が可能となる。ソフトウェアベースデータパスアーキテクチャのスケーラブル特性は,システムの再設計をすること無しで将来の容量拡張が可能となる。この論文の方法は,少なくとも256CPUコアにスケーラブルであることを実証した。多くのマスクパターンに対する初期のベンチマーク結果は,容量の増加が達成されたことを示している。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  *レーザ加工 ,  *ソフトウェア ,  *走査
準シソーラス用語： パターン生成 ,  *ラスター走査 ,  マルチビーム

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： ラスタ走査 ,  ソフトウェア