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J-GLOBAL ID:201702229550892976   整理番号:17A0364743

パルスレーザ蒸着により合成した窒化アルミニウム薄膜の微細構造に及ぼすレーザパルス周波数の影響【Powered by NICT】

Influence of laser pulse frequency on the microstructure of aluminum nitride thin films synthesized by pulsed laser deposition
著者 (8件):
資料名:
巻: 394  ページ: 197-204  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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窒化アルミニウム(AlN)薄膜を,パルスレーザ蒸着により450°CでSi(100)ウエハ上に合成した。多結晶AlNターゲットは多重パルス窒素雰囲気中で照射し,種々のレーザパルス繰返し速度であった。すれすれ入射X線回折と原子間力顕微鏡は非晶質AlNマトリックス内の六方格子をもつ証明されたナノ結晶を解析した。層の厚さと光学定数を赤外分光偏光解析法により決定した。光学的性質を偏光斜め入射放射のFourier変換赤外反射分光法により調べた。Berreman効果は結晶性AlN成分の縦フォノンモード付近で観測した。A_1LOモード振動数の角度依存性を解析し,粒子の光軸基板表面法線の配向に接続した。層の特性に及ぼすレーザパルス周波数の役割はこれに基づいて考察した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  金属薄膜 

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