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J-GLOBAL ID：201702229827296855   整理番号：17A0463116

膜スタック特性のOPCモデリングに関するBayes分析及び事後予測チェッキング

Bayesian Analysis for OPC Modeling with Film Stack Properties and Posterior Predictive Checking

著者 (4件)： BURBINE Andrew (Mentor Graphics Corp., OR) ,  FENGER Germain (Mentor Graphics Corp., OR) ,  STURTEVANT John (Mentor Graphics Corp., OR) ,  FRYER David (Mentor Graphics Corp., OR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 100320N.1-100320N.5  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光近接効果補正(OPC)について,四つの付加パラメータ及び事後予測チェッキングに依り,Bayes分析を行った。従来,OPCモデル較正中に最適化されなかった付加パラメータは,薄膜屈折率及び消光係数を得る方法が,間接観測及び反射データへのモデルフィッティングを含むため,不確実性を含んでいた。これらのパラメータの最適化が,事後予測チェッキング法の使用により,検証データにおける適応度の品質を改善することを示した。わずか100ゲージでトレーニングしたモデルは,全データセットに対して安定した結果を示した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *補正 ,  *Bayes推定 ,  *不確実性 ,  *最適化 ,  改良
準シソーラス用語： *光近接効果補正 ,  *パラメータ最適化 ,  品質改善

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： スタック ,  OPC ,  モデリング ,  分析 ,  予測