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J-GLOBAL ID:201702231362820191   整理番号:17A0388209

高けい素マトリックス中のICP-OESによるけい素中の微量元素の精密定量のための新しい方法の開発と検証【Powered by NICT】

Development and validation of a new method for the precise and accurate determination of trace elements in silicon by ICP-OES in high silicon matrices
著者 (2件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: 322-333  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0770C  ISSN: 0267-9477  CODEN: JASPE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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シリコン中の不純物の正確で精密な定量のための新しい方法を開発し,統計的に検証した。非金属ほう素とりんの正確な決定に特に注意を払った。温和な条件下での時間のかかる開放容器消化Instead,シリコンの溶解はマイクロ波支援高圧システムで実施した。提示された方法の重要な革新はICP-OES測定のための濃縮消化溶液の直接使用である。このアプローチは,蒸発,ほう素の定量における最も重要な段階であるによるシリコンと酸マトリックスの除去を必要とすることを一般的に使用される,時間消費法を避けることができるが,このような高けい素マトリックス中のICP-OES測定は,測定条件の完全に新しい最適化,選択性,スペクトル及び非スペクトル推論に関して輝線の注意深い選択を必要とする。不純物含量の定量のために,マトリックスマッチング(MMC)と多重標準添加法(MSA)の方法を用いた。MSAのスパイク濃度の最適化後,両方法の品質を,統計的分析によって比較した。金属不純物Al,Mg,Ca,Ti,Cr,Mn,Fe,Ni,Cu,ZrおよびPに対して,検証は認証標準物質(IPT134, IPT135, NIST57b)に対して行った。ほう素を検証するために,三研究所間比較から異なる含有量ほう素の9シリコン試料を用いた。新しい方法は4Nシリコンの不純物(12元素)の決定を可能にした。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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無機物質中の元素の物理分析 

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