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J-GLOBAL ID:201702234542974066   整理番号:17A0889846

深くエッチングしたけい素/空気Braggマイクロミラーの製作許容度の理論的及び実験的解析【Powered by NICT】

Theoretical and experimental analysis of the fabrication tolerance on deeply etched silicon/air Bragg micromirrors
著者 (6件):
資料名:
巻: 2017  号: NRSC  ページ: 407-414  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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深エッチBraggマイクロミラーの技術的耐性とアーチファクトと性能へのそれらの影響のモデル化と解析を行った。150μmエッチング深さとSi/Air層厚さ約3.8μm/3.6μmのSi/Air Braggマイクロミラーは,ディープ反応性イオンエッチング(DRIE)を用いたSiウエハ上に作った。1600nmの中心波長で動作するように設計した。このような高アスペクト比DRIEに対して,オーバエッチを避け,表面粗さなどの技術の副作用が重要である。マルチバンドスペクトル応答のための光学的測定を用いて,作製したマイクロミラーの性能を特性化し,技術的パラメータを推定した。中心波長は0.45nm/nmの速度でエッチングとともに単調にシフトすることが分かった。3dB帯域幅と反射鏡の反射率の依存性をエッチングとともに非単調である。表面粗さは帯域幅と反射鏡の反射率の劣化に加えて中心波長におけるシフトをもたらした。示した結果はBraggマイクロミラーに基づく光フィルタとセンサに及ぼす技術的影響を理解するために重要である。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 

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