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J-GLOBAL ID:201702244679106976   整理番号:17A0492878

原子層堆積Al2O3と(100)InAsの界面におけるバンドオフセットとトラップ関連電子遷移

Band offsets and trap-related electron transitions at interfaces of (100)InAs with atomic-layer deposited Al2O3
著者 (10件):
資料名:
巻: 120  号: 23  ページ: 235701-235701-7  発行年: 2016年12月21日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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分類 (3件):
分類
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半導体結晶の電子構造  ,  界面の電気的性質一般  ,  半導体の結晶成長 

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