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J-GLOBAL ID：201702247729037443   整理番号：17A0312877

抗生物質汚染物質の除去のための効率的で安定なNb_2O_5修飾G C_3N_4光触媒【Powered by NICT】

Efficient and stable Nb₂O₅ modified g-C₃N₄ photocatalyst for removal of antibiotic pollutant

著者 (7件)： Hong Yuanzhi (School of Materials Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Li Changsheng (School of Materials Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Zhang Guangyi (School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Meng Yadong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Yin Bingxin (School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Zhao Yong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China) ,  Shi Weidong (School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 299  ページ： 74-84  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光触媒技術を用いた汚染物質の除去は深刻な環境汚染のために多くの注目を集めている。本研究では,新規Nb_2O_5μg/g C_3N_4ヘテロ接合を初めて簡単な一段階加熱法により作製した。純g C_3N_4とNb_2O_5と比較して,調製したままのNb_2O_5μg/g C_3N_4試料は可視光および擬似太陽光照射下でテトラサイクリン塩酸塩(TC HCl)の分解に対して著しく増強光触媒活性を示した。ヘテロ接合(3%NO/CN)の3%Nb_2O_5含量はTC HCl分解に対して最も高い光触媒効率は可視と模擬太陽光照射の下で,純粋なg C_3N_4のそれより約2.9倍と2.4倍高いを示したことが分かった。添加では,3%NO/CN試料は優れた光触媒リサイクル性をdisplaidだけでなく,強い酸性条件(pH=1)下でさえTC HClを効率的に除去できる。さらに,3%NO/CNヘテロ接合は,他のフルオロキノロン抗生物質の分解に対する光触媒活性の増強,シプロフロキサシン(CIP)とレボフロキサシン(LEV)のような劇的にを示した。高増強光活性はC_3N_4とNb_2O_5間のヘテロ接合,光生成電子-正孔対の再結合を大きく抑制するの形成に起因した。活性種トラッピングとESR実験はスーパーオキシドラジカルと正孔は,光触媒プロセスに寄与する主要な活性種であることを示した。抗生物質汚染物質と太陽エネルギー変換の処理に適用できる可能性をもたらすであろう。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光触媒 ,  電子正孔対 ,  太陽光 ,  リサイクル ,  光生成 ,  *汚染物質 ,  正孔 ,  ヘテロ接合 ,  再結合 ,  塩酸 ,  *ニオブ ,  可視光
準シソーラス用語： 太陽エネルギー変換 ,  光活性化 ,  光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： g C_3N_4 ,  Nb_2O_5 ,  塩酸テトラサイクリン ,  光触媒 ,  抗生物質汚染物質

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  触媒操作  (XE01050T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 抗生物質 ,  汚染物質 ,  修飾 ,  光触媒