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J-GLOBAL ID:201702256921583943   整理番号:17A0551829

ブロードバンド光吸収性のInGaN光アノードのインプリント援助パターニングおよびZnOナノワイヤ成長によるエネルギー変換

Broadband light-absorption InGaN photoanode assisted by imprint patterning and ZnO nanowire growth for energy conversion
著者 (11件):
資料名:
巻: 28  号:ページ: 045401,1-7  発行年: 2017年01月27日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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サファイア(0001)基板上にMOCVDによりIn0.2Ga0.8N/GaN多重量子井戸/pAlGaN電子遮蔽層からなる積層構造を成長させた。ドームアレイパターンを形成したポリジメチルシロキサン(PDMS)スタンプ表面にシルセスキオキサン層を形成し,量子井戸積層構造の表面にパターンを転写した。湿式エッチング処理により表面欠陥を除去し,酸化亜鉛ナノワイヤを表面に成長させた。走査電子顕微鏡,光ルミネセンススペクトル,X線回折,紫外可視吸収/透過/反射スペクトルによりキャラクタリゼーションを行った。クロム/白金/金電極を形成し,硫酸ナトリウム水溶液電解質との組合せにより光起電力素子を作製し,光アノード特性を検討した。300~400nm領域の吸収率が顕著に増強され,1.23V(vs RHE)において光電流密度0.17mA/cm2を達成した。
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電極過程  ,  半導体の表面構造  ,  太陽電池 

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