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J-GLOBAL ID：201702257301990121   整理番号：17A0704454

TiO_2@SiO_2/APTESの高UV遮蔽能力と下部光触媒活性とポリ(p-フェニレンスルフィド)の光安定性の増強におけるその優れた性能【Powered by NICT】

Higher UV-shielding ability and lower photocatalytic activity of TiO₂@SiO₂/APTES and its excellent performance in enhancing the photostability of poly(p-phenylene sulfide)

著者 (5件)： Bai Yali (State Key Laboratory of Separation Membranes and Membrane Processes, School of Materials Science and Engineering, Tianjin Polytechnic University, Tianjin, 300387, China. [e-mail] [e-mail]) ,  Li Zhenhuan ,  Cheng Bowen ,  Zhang Maliang ,  Su Kunmei
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 35  ページ： 21758-21767  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： U TiO_2を成功裏にSiO_2で被覆し,その後,APTESにより修飾されると,コア-シェル構造はTiO_2ナノ粒子の凝集を減少させる大きくTiO_2@SiO_2とTiO_2@SiO_2/APTES,上に存在する。U TiO_2,TiO_2@SiO_2,とTiO_2@SiO_2/APTESの光触媒活性をメチレンブルー(MB)の分解を用いて評価した。MBの約50%はUV照射(300 W)下でU TiO_2の存在下で,15分後に分解し,MBの僅か17.44%と4.18%がTiO_2@SiO_2~0.6,TiO_2@SiO_2/APTESの存在において分解される。TiO_2@SiO_2/APTES0.6,TiO_2@SiO_2~,0.2は優れたUV吸収能を示し,TiO_2@SiO_2/APTESではU TiO_2のUV遮蔽能力の80%を達成した。ポリ(p-フェニレンスルフィド)(PPS)は容易に光分解された材料であり,TiO_2/PPSであるPPSより著しく光分解が,TiO_2@SiO_2/APTESナノ粒子はPPSを保護するUV分解から,PPSマトリックス中でのそれらの低い光触媒活性,高いUV遮蔽能と分散が容易であることによることができる。1wt%TiO_2@SiO_2/APTES/PPS膜の破断強度保持率は38.26%の最大増加を示し,破断伸び保持率は2wt%TiO_2@SiO_2/APTES負荷で41.64%増加した。これらの結果は,TiO_2@SiO_2/APTESナノ粒子PPSマトリックス中への取り込みは,PPSマトリックスに優れた抗UV特性を,機械的性能改善をもたらすことを明らかにした。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  光分解 ,  材料 ,  紫外線照射 ,  破断強さ ,  コアシェル構造 ,  機械的性能 ,  破断伸び ,  紫外吸収 ,  *光触媒活性 ,  機械的性質 ,  強度 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニウム ,  硫黄複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： *光安定性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： メチレンブルー

タイトルに関連する用語 (5件)： 遮蔽 ,  能力 ,  光触媒活性 ,  光安定性 ,  増強