文献
J-GLOBAL ID:201702257495553443   整理番号:17A0793052

CF_4プラズマ中でエッチングした高分子複合材料の疎水化の機構【Powered by NICT】

Mechanisms of hydrophobization of polymeric composites etched in CF4 plasma
著者 (12件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 334-339  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
高分子材料の最適疎水性を達成特に高分子マトリックス複合材料は,多くの材料応用に対して重要である。ここで疎水性表面を決定する因子の相互作用は官能化で選択的な高分子マトリックスエッチングをもたらすCF_4プラズマ処理中に提出された。プラズマ反応性種への連続曝露は,表面上の官能化とエッチング,表面形態および表面化学を決定することを誘導する。,プラズマ-表面相互作用中の発熱過程は,材料の表面化学とエッチング速度に影響するもう一つの重要な因子である。結果は表面粗さをエッチングと増加にもかかわらず,疎水性への主要な寄与はフッ素を装着した炭素原子の数に依存し,一方温度は生成した結合のタイプの決定因子であることを示す。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体のその他の性質  ,  固体の表面構造一般  ,  医用素材 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る