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J-GLOBAL ID:201702262396791493   整理番号:17A0364712

グラフェン異方性エッチングに及ぼす銅箔多結晶構造の影響【Powered by NICT】

Influence of copper foil polycrystalline structure on graphene anisotropic etching
著者 (6件):
資料名:
巻: 393  ページ: 428-433  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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グラフェンおよび他の二次元材料の異方性エッチングは,成長過程を理解するために種々の明確に定義された構造の製作を可能にする重要なツールである。ここでは,合成したままのグラフェンの異方性エッチング過程に及ぼす銅箔多結晶構造の影響を明らかにした。グラフェン結晶は,低圧化学蒸着(LPCVD)システムによる多結晶Cu箔上に合成した。顕微鏡分析は,隣接Cu結晶粒の閉鎖近傍内の異種核形成を有するグラフェン結晶の形状,大きさ及びストライプ配列の違いを示した。グラフェン結晶の成長後エッチングも電界放出走査型電子顕微鏡(FE SEM)と電子後方散乱回折(EBSD)分析により観察されたように,Cu結晶粒の結晶学的性質が著しく影響した。異方性エッチングを有する六方晶ホール形成は,合成したグラフェンにおけるストライプおよびしわとは無関係であることが観察された。も塩基Cu結晶粒方位に依存してグラフェンのエッチングパターンの変化を観察し,核形成と成長過程の違いに起因する。知見は,金属触媒の結晶学的構造に依存して微視的エッチしたパターンの性質を理解するために容易にすることができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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炭素とその化合物  ,  その他の無機化合物の薄膜 
タイトルに関連する用語 (4件):
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