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J-GLOBAL ID：201702280374081905   整理番号：17A0703381

近接場回折限界を超えた遠プラズモンレンズリソグラフィーの近接補正と分解能の向上【Powered by NICT】

Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit

著者 (10件)： Luo Yunfei (State Key Laboratory of Optical Technologies on Nano-Fabrication and Micro-Engineering, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 350, Chengdu 610209, China. [e-mail]) ,  Liu Ling ,  Zhang Wei ,  Kong Weijie ,  Zhao Chengwei ,  Gao Ping ,  Zhao Zeyu ,  Pu Mingbo ,  Wang Changtao ,  Luo Xiangang
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 20  ページ： 12366-12373  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近接場光学イメージング法は,近接場回折限界の問題に苦しんできた,すなわち画像分解能と忠実度は,オブジェクト,エバネセント波の大きな減衰効果のために起こるから離れた距離に強く依存した。最近,軸外光照明を持つプラズモン空洞共振器レンズは,高密度ナノ線パターンを画像化するための近接場回折限界を超えて行くための方法として提案した。本論文では,この研究をさらに分離し,離散線パターンのためのより一般的な場合に拡張し,分解能を向上させ,補助末梢溝構造を持つ近接効果を補正した。実験結果は,一重,二重及び多重線パターンの幅は良く制御され,均一性は365nm光波長と120nm動作距離をもつリソグラフィーにおける改善され,近接場回折限界により定義された空気距離約十倍であることを示した。法はナノリソグラフィー,高密度光ストレージ,走査型プローブ顕微鏡などに応用を見出すと信じられている。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *レンズ ,  画像処理 ,  照明 ,  *近接場 ,  走査型プローブ顕微鏡 ,  *リソグラフィー ,  *プラズモン ,  *分解能 ,  近接効果 ,  エバネセント波
準シソーラス用語： ナノリソグラフィー ,  画像化 ,  高密度 ,  近接場光学 ,  *回折限界 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 近接場 ,  回折限界 ,  分解能