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J-GLOBAL ID:201702281178462203   整理番号:17A0829717

化学蒸着によるグラファイト上の非晶質SiO_2中間層とダイヤモンド膜の連続蒸着【Powered by NICT】

Consecutive deposition of amorphous SiO2 interlayer and diamond film on graphite by chemical vapor deposition
著者 (5件):
資料名:
巻: 117  ページ: 126-136  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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化学蒸着(CVD)ダイヤモンド膜はグラファイト成分に対する効果的な保護被覆として使用することができ,膜-基板接着は,原子水素による黒鉛のエッチングにより不良であった。はこの問題を解決するための非晶質SiO_2(a SiO_2)層を前堆積する有用な方法として考えられる。本研究では,a SiO_2中間層を介在させることにより,四種類のダイヤモンド膜の一般的な市販グラファイト基板上に堆積し,このようなa-SiO2層とCVDダイヤモンド膜を連続的に同じ熱フィラメントCVD装置で合成されることは注目に値する。成長中の堆積したままのa SiO_2層は典型的な非晶質特徴を有し,基板上に十分な保護を提供し,ダイヤモンド膜の自然除去を回避することを証明した。SiO_2被覆グラファイト基板上に堆積した微結晶ダイヤモンド,ナノ結晶ダイヤモンド,ほう素をドープした微結晶ダイヤモンド(BDMCD)とほう素をドープしたナノ結晶ダイヤモンド膜は,他の基板上にマイクロまたはナノサイズのダイヤモンド膜と一致する典型的な特徴を示した。四ダイヤモンド膜の中で,主に電気伝導率のためのいくつかのアプリケーション要求に直面している,BDMCD膜は比較的良好な包括的性能,高いダイヤモンド純度,高いナノ硬度(74.21 GPa)と弾性率(890.93 GPa),良好な接着と低い電気抵抗率(29 μΩ m)を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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