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J-GLOBAL ID：201702281714541405   整理番号：17A0599049

低圧ナノろ過のための高フラックスおよび防汚特性を有する薄膜ナノコンポジット膜に組み込まれたグラフェン酸化物量子ドット

Graphene Oxide Quantum Dots Incorporated into a Thin Film Nanocomposite Membrane with High Flux and Antifouling Properties for Low-Pressure Nanofiltration

著者 (6件)： ZHANG Chunfang (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN) ,  WEI Kaifang (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN) ,  ZHANG Wenhai (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN) ,  BAI Yunxiang (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN) ,  SUN Yuping (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN) ,  GU Jin (Jiangnan Univ., Wuxi, CHN)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9  号： 12  ページ： 11082-11094  発行年： 2017年03月29日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低圧ナノろ過プロセスのためのその場界面重合によって,グラフェン酸化物量子ドット(GOQD)を含む新規な薄膜ナノコンポジット(TFN)膜を作製した。1~3層のグラフェン層と平均直径3.5nmを有するGOQDと調製し,0~1.0重量%の濃度でTFN膜を調製するための充填剤として使用した。形態学的研究により,タンニン酸(TA)薄膜層におけるGOQDの良好な分散が生じたことを示した。元のTA TFC膜と比較すると,TA/GOQD TFN膜は高い透過性を示し,GOQDナノシートを通る短い流路が水透過に関与していることを示唆した。GOQDによって導入されたTA/GOQD TFN膜の高い親水性および平滑な表面構造により,膜の汚れに対する耐性を改善することが期待される。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *酸化物 ,  *量子ドット ,  ナノ濾過 ,  *高分子分離膜 ,  界面重合 ,  ナノ構造 ,  複合膜 ,  充填剤 ,  薄膜 ,  ナノシート ,  ポリアクリロニトリル ,  Ramanスペクトル ,  X線回折 ,  透過型電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  キャラクタリゼーション ,  走査電子顕微鏡 ,  熱分解 ,  ζ電位 ,  FTIR分光法 ,  防汚性 ,  脂肪族アルコール ,  脂肪族カルボン酸 ,  ヒドロキシ酸 ,  ポリカルボン酸
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  *グラフェン量子ドット ,  ナノコンポジット膜 ,  *ナノ濾過膜 ,  *酸化グラフェン ,  薄膜層 ,  防汚

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (2件)： クエン酸 ,  タンニン酸

タイトルに関連する用語 (8件)： 低圧 ,  ナノろ過 ,  フラックス ,  防汚 ,  薄膜 ,  ナノコンポジット膜 ,  グラフェン酸化物 ,  量子ドット