文献

J-GLOBAL ID：201702288953292280   整理番号：17A0579288

空間大気圧プラズマで強化されたALDにより作製したガス拡散バリア

Gas Diffusion Barriers Prepared by Spatial Atmospheric Pressure Plasma Enhanced ALD

著者 (10件)： HOFFMANN Lukas (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  THEIRICH Detlef (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  PACK Sven (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  KOCAK Firat (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  SCHLAMM Daniel (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  HASSELMANN Tim (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  FAHL Henry (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  RAEUPKE Andre (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU) ,  GARGOURI Hassan (SENTECH Instruments GmbH, Berlin, DEU) ,  RIEDL Thomas (Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9  号： 4  ページ： 4171-4176  発行年： 2017年02月01日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿で,我々は空間APPALDにより成長させた酸化アルミニウムに基づく薄膜ガス拡散障壁(GDBs)に付いて報告する。空間ALDで成長された水とプラズマベースの酸化アルミニウムは両方とも極めて低い水蒸気透過率(WVTR)10^-6gm^-2d^-1オーダーを達成することが出来る。大気圧プラズマ(APP)ALDで成長された酸化アルミニウム膜はALDタイプの成長で典型的な飽和挙動を,低い蒸着温度(<80°C)でも示し,低い粗さでそして比較的高い物理密度を有する薄膜である。衝撃的な対照として,水と共に成長したフィルムは望むバリア性能を達成するのに≧100°Cの成長温度を必要とする。更に,我々はAPPALDプロセスに於いて基板移動の速度が2.2m/minと高い速度を選択出来ることを示す。

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  *拡散障壁 ,  *蒸着膜 ,  *水蒸気 ,  透過 ,  *原子層エピタクシー ,  *大気プラズマ ,  基板温度
準シソーラス用語： ガス透過 ,  大気圧プラズマ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 大気圧プラズマ ,  強化 ,  ALD ,  作製 ,  拡散バリア