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J-GLOBAL ID：201702290681784135   整理番号：17A0471316

ウエハスケール単分子層WO_3は超高感度,超高速で安定なUV-A光検出を窓【Powered by NICT】

Wafer-scaled monolayer WO₃ windows ultra-sensitive, extremely-fast and stable UV-A photodetection

著者 (6件)： Hai Zhenyin (Ghent University Global Campus, Department of Applied Analytical & Physical Chemistry, Faculty of Bioscience Engineering, 119 Songdomunhwa-ro, Yeonsu-gu, Incheon 21985, South Korea) ,  Akbari Mohammad Karbalaei (Ghent University Global Campus, Department of Applied Analytical & Physical Chemistry, Faculty of Bioscience Engineering, 119 Songdomunhwa-ro, Yeonsu-gu, Incheon 21985, South Korea) ,  Xue Chenyang (Key Laboratory of Instrumentation Science and Dynamic Measurement of Ministry of Education, North University of China, Taiyuan, Shanxi 030051, China) ,  Xu Hongyan (School of Materials Science and Engineering, North University of China, Taiyuan, Shanxi 030051, China) ,  Hyde Lachlan (Melbourne Centre for Nanofabrication, Clayton, Victoria 3168, Australia) ,  Zhuiykov Serge (Ghent University Global Campus, Department of Applied Analytical & Physical Chemistry, Faculty of Bioscience Engineering, 119 Songdomunhwa-ro, Yeonsu-gu, Incheon 21985, South Korea)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 405  ページ： 169-177  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO_2/Siウエハの大面積で原子層堆積(A LD)法で作製した,単層WO_3ベースUV-A光検出器は非常に改善された機能的能力:40μs以下の非常に速い応答時間と~0.329AW~ 1の光応答性到達を実証した。それらの超高速光応答時間は作製された他のWO_3ベースUV光検出器のための,と報告のためのナツメヤシ二次元(2D)ナノ材料に基づく他の光検出器の大部分よりも有意に速く以前の報告よりも少なくとも400倍改善した。さらに,それらの測定した長期安定性は,目に見える劣化なしで200サイクル以上を超えていた。A LD WO_3単分子層は,3.53eVの広いバンドギャップを示し,それに基づくUV-A光検出器は環境に優しく,高度に信頼性があり,優れた再現性及び長期安定性を有する。全く新しい量子閉込め効果を持つ単層半導体へのシフトは,ナノ材料の新しいクラス,代わりに半導体単分子層上に構築された種々のオプトエレクトロニクス装置のための新しい機能的機会をwindowsを形成する最大の可能性を有しており,より重要なことは,高柔軟性,安価で非常に敏感なデバイス作製のための新しい戦略をもたらす可能性がある。また,この戦略は,光検出器の工業化と商業化と単分子層または数層2Dナノ材料に基づく他の光電子デバイスのための大きな機会を開くものである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 紫外線 ,  オプトエレクトロニクス ,  ナノ材料 ,  光検出器 ,  再現性 ,  柔軟性 ,  応答時間 ,  *光検出 ,  *単分子層 ,  バンドギャップ
準シソーラス用語： 長期安定性 ,  光応答 ,  シリコンウエハ ,  *UV-A ,  *超高速 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 原子層堆積 ,  単分子層WO_3 ,  光応答性 ,  応答時間 ,  UV光検出器

分類 (1件)： 測光と光検出器一般  (BD07031F)

タイトルに関連する用語 (7件)： ウエハ ,  スケール ,  単分子層 ,  高感度 ,  UV-A ,  光検出 ,  窓