Si/SiO<sub>2</sub>へのCFビーム照射に対する表面緩和過程を含む分子動力学シミュレーション

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J-GLOBAL ID：200902245343673692 整理番号：03A0300065

Si/SiO₂へのCFビーム照射に対する表面緩和過程を含む分子動力学シミュレーション

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資料名：
巻： 50th 号： 1 ページ： 181 発行年： 2003年03月27日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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固体デバイス製造技術一般

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