CF<sub>3</sub><sup>+</sup>イオンビームを用いたポリメタクリル酸メチル樹脂のエッチングにおける紫外光照射の効果

幾世和将; 吉村智; 塚崎泰裕; 木内正人; 木内正人; 浜口智志

文献

J-GLOBAL ID：200902247571146441 整理番号：09A0599176

CF₃⁺イオンビームを用いたポリメタクリル酸メチル樹脂のエッチングにおける紫外光照射の効果

Effects of Ultraviolet Light Irradiation on Etching of Polymethylmethacrylate by CF₃⁺ Ion Beam Injections

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著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 52 号： 3 ページ： 127-130 (J-STAGE) 発行年： 2009年
JST資料番号： G0194A ISSN： 1882-2398 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

低エネルギー質量分離イオンビーム照射装置を用いて,ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)のCF₃⁺イオンビームによるエッチングにおける光の影響を評価する実験的研究を行った。470eVのエネルギーのイオンビームを用いた。PMMAではSiO₂と比べて原子間の結合エネルギーが低いため,紫外線照射の影響がより顕著になると期待できる。C-C結合,C-O結合,C-H結合に対する原子間結合エネルギーに対応する光の波長は,各々,340nm,330nm,290nmであり,300nm程度またはそれ以下の波長の紫外線照射が必要である。イオンと光を重畳してPMMAを照射した場合の膜厚減少量は,イオン単独照射の場合と光単独照射の場合の膜厚減少量の和より大きいことが分かった。即ち,PMMAのエッチングプロセスにおいて,イオンビームの効果と紫外光の効果との間になんらかの相乗効果があることいが明らかになった。光照射を重畳することでPMMA内の原子結合が励起状態(反結合状態)になり,エッチングレートが増大すると思われる。

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固体デバイス製造技術一般

引用文献 (7件)：

1) K. Ishikawa, K. Karahashi, H. Tsuboi, K. Yanai and M. Nakamura: J. Vac. Sci. Technol. A, 21 (2003) L1.
2) K. Karahashi, K. Yanai, K. Ishikawa, H. Tsuboi, K. Kurihara and M. Nakamura: J. Vac. Sci. Technol. A, 22 (2004) 1166.
3) K. Yanai, K. Karahashi, K. Ishikawa and M. Nakamura: J. Appl. Phys., 97 (2005) 053302.
4) K. Ishikawa, M. Okigawa, Y. Ishikawa, S. Samukawa and S. Yamasaki: Appl. Phys. Lett., 86 (2005) 264104.
5) S. Samukawa, B. Jinnai, F. Oda and Y. Morimoto: Jpn. J. Appl. Phys., 46 (2007) L64.

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CF3+イオンビームを用いたポリメタクリル酸メチル樹脂のエッチングにおける紫外光照射の効果

CF₃⁺イオンビームを用いたポリメタクリル酸メチル樹脂のエッチングにおける紫外光照射の効果