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J-GLOBAL ID：200902255442645639   整理番号：05A0858448

ホモシステイン単分子膜修飾金電極におけるDOPAのキラル選択的酸化還元-DOPA濃度およびpHの影響

著者 (5件)： 長坂誠 ,  松永真理子 ,  中西卓也 ,  朝日透 ,  逢坂哲弥
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集  (電気化学合同秋季大会講演要旨集)
巻： 2005  ページ： 205  発行年： 2005年09月08日 
JST資料番号： X0038A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 金電極 ,...

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分類 (1件)： 酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (2件)： ホモシステイン ,  DOPA

タイトルに関連する用語 (9件)： ホモシステイン ,  単分子膜 ,  修飾 ,  金電極 ,  DOPA ,  キラル ,  選択的酸化 ,  還元 ,  pH