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J-GLOBAL ID：200902278373220051   整理番号：09A0232150

早稲田大学におけるマルチパルス逆コンプトン散乱軟X線源開発の現状

著者 (16件)： 増田明彦 (早大 理工研) ,  五十嵐千明 (早大 理工研) ,  丑田公規 (理研) ,  浦川順治 (KEK) ,  柏木茂 (大阪大 産科研) ,  加藤雄太 (早大 理工研) ,  黒田隆之助 (産業技術総合研) ,  五輪智子 (早大 理工研) ,  坂上和之 (早大 理工研) ,  篠原邦夫 (早大 理工研) ,  鈴木達也 (早大 理工研) ,  早野仁司 (KEK) ,  藤野達樹 (早大 理工研) ,  満田直哉 (早大 理工研) ,  村田亜希 (早大 理工研) ,  鷲尾方一 (早大 理工研)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 64  号： 1 第1分冊  ページ： 111  発行年： 2009年03月03日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *X線源 ,  軟X線 ,  Compton散乱 ,  X線発生 ,  X線検出 ,  電子ビーム ,  ビームバンチング ,  レーザパルス ,  光電陰極 ,  電磁波放射 ,  発生

分類 (1件)： 線源,照射装置  (MC01020V)

タイトルに関連する用語 (6件)： マルチ ,  パルス ,  逆コンプトン散乱 ,  軟X線 ,  開発 ,  現状