特許
J-GLOBAL ID：200903013309583582
超低硫黄軽油基材又は超低硫黄軽油組成物の製造方法及び超低硫黄軽油組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
石井 良夫
, 吉見 京子
, 後藤 さなえ
, 藤野 清也
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005023469
公開番号（公開出願番号）：WO2006-070660
出願日： 2005年12月21日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
比較的マイルドな条件で水素の消費を大きく増やすことなく、しかも芳香族分を著しく減少させることなく、硫黄分5質量ppm未満の超低硫黄軽油基材又は超低硫黄軽油組成物を製造する方法及び発熱量が高く、燃費や出力に優れ、燃料噴射系で使用しているシールゴム部材等への影響がなく、燃料の漏れを生じない硫黄分5質量ppm未満の超低硫黄軽油組成物を提供すること。 硫黄分5〜50質量ppmの低硫黄軽油留分を水素共存下で、硫黄収着機能を持った多孔質脱硫剤と接触させて脱硫処理することにより、硫黄分5質量ppm未満の超低硫黄軽油基材又は超低硫黄軽油組成物を製造する方法、及び硫黄分5質量ppm未満で芳香族分が13〜30容量%である超低硫黄軽油組成物。
請求項（抜粋）：
硫黄分5〜50質量ppmの低硫黄軽油留分を水素共存下で、硫黄収着機能を持った多孔質脱硫剤と接触させて脱硫処理し、硫黄分5質量ppm未満とすることを特徴とする超低硫黄軽油基材又は超低硫黄軽油組成物の製造方法。
IPC (4件)：
C10G 45/06
, C10L 1/08
, C10G 67/06
, C10G 45/08
C10G45/06 A
, C10L1/08
, C10G67/06
, C10G45/08 Z
4H029CA00
, 4H029DA00
, 4H029DA06
, 4H029DA09
