特許
J-GLOBAL ID：200903044427263501

光触媒による酸化分解方法及び水浄化装置

発明者：
古谷 正裕

古谷 正裕 について

, 
常磐井 守泰

常磐井 守泰 について

, 
田中 伸幸

田中 伸幸 について


出願人/特許権者：
財団法人電力中央研究所

財団法人電力中央研究所 について


代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-064968
公開番号（公開出願番号）：特開2009-219958
出願日： 2008年03月13日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】光触媒機能を向上させることができる光触媒による酸化分解方法及び水浄化装置を提供する。【解決手段】金属製基体の表面に設けられた炭素ドープ金属酸化物層からなる光触媒層を用いて酸化分解を行うに際し、前記光触媒層に電位を与えた状態とする。光触媒層としては、炭素がドープされた炭素ドープ酸化チタン層や炭素ドープチタン合金酸化物層であり、このような光触媒層は、少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物、酸化チタンなどからなる基体の表面を、炭素、酸素を含む化学種が表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより形成できる。このようにして形成された光触媒層は、緻密な層で基体と一体化しており、基体との電気的コンダクタンスが良好である。これにより、電位を与える際の過電圧を抑制し、エネルギー損失を低減できる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
金属製基体の表面に設けられた炭素ドープ金属酸化物層からなる光触媒層を用いて酸化分解を行うに際し、前記光触媒層に電位を与えた状態とすることを特徴とする光触媒による酸化分解方法。
IPC (5件)：
B01J 35/02 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/46
FI (5件)：
B01J35/02 J ,  C02F1/72 101 ,  C02F1/32 ,  C02F1/30 ,  C02F1/46 Z
Fターム (35件)：
4D037AA01 ,  4D037AB05 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037CA04 ,  4D037CA11 ,  4D050AA01 ,  4D050AB03 ,  4D050AB12 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050CA10 ,  4D061DA02 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061ED12 ,  4D061ED17 ,  4D061ED20 ,  4G169AA02 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA17 ,  4G169BA48A ,  4G169CA05 ,  4G169EA08 ,  4G169HA09 ,  4G169HB01 ,  4G169HD12 ,  4G169HE05
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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