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J-GLOBAL ID：201002270132624739   整理番号：10A0463870

低温・低ダメージプラズプロセスの開発に向けたプラズマ・ポリマー相互作用のナノ表面解析

著者 (12件)： CHO Ken (阪大 接合研) ,  CHO Ken (JST-CREST) ,  竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  竹中弘祐 (JST-CREST) ,  節原裕一 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (JST-CREST) ,  白谷正治 (九大) ,  白谷正治 (JST-CREST) ,  関根誠 (名古屋大) ,  関根誠 (JST-CREST) ,  堀勝 (名古屋大) ,  堀勝 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19P-ZB-2  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  高分子 ,  *ポリエチレンテレフタレート ,  *表面処理 ,  固体素子 ,  紫外線照射 ,  X線光電子スペクトル ,  表面分析 ,  表面性状 ,  化学結合 ,  フレキシブル基板 ,  プリント基板 ,  照射損傷 ,  ナノデバイス ,  *芳香族ポリエステル

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温 ,  開発 ,  プラズマ ,  ポリマー ,  相互作用 ,  解析