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J-GLOBAL ID：201202235750124881   整理番号：12A0587732

低エネルギーイオンビーム照射によるPMMAエッチングイールドの測定と水素プラズマ暴露のエッチングイールドへの影響

著者 (6件)： 吉村智 (大阪大 工) ,  塚崎泰裕 (大阪大 工) ,  杉本敏司 (大阪大 工) ,  木内正人 (大阪大 工) ,  木内正人 (産業技術総合研) ,  浜口智志 (大阪大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.17P-A7-1  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸メチル ,  *フォトレジスト ,  プラズマ曝露 ,  *イオンエッチング ,  イオン照射 ,  水素プラズマ
準シソーラス用語： エッチング収率

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低エネルギー ,  イオンビーム照射 ,  PMMA ,  エッチング ,  イールド ,  水素プラズマ ,  暴露