特許

J-GLOBAL ID：201403005690636201

グラフェンの製造方法、基板上に製造されたグラフェン、ならびに、基板上グラフェン

発明者： 野田 優 ,  高野 宗一郎
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (2件)： 木村 満 ,  石井 裕一郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012054810
公開番号（公開出願番号）：WO2012-118023
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2012年09月07日
要約：

基板上にグラフェンを製造する製造方法等を提供する。ここで、形成工程では、金属に炭素が固溶した固溶体が形成可能な固溶温度への加熱を行って、当該固溶体からなる固溶体層(505)を基板(103)上に形成する。そして、除去工程では、固溶温度への加熱を維持したまま固溶体層(505)から金属を除去することにより、基板(103)上でグラフェン(102)を成長させる。炭素を固溶させる溶媒には単一の元素からなる金属のほか、各種の合金も利用可能である。エッチングガスを供給することによって固溶体層(505)から金属を除去すれば、グラフェン(102)は、基板(103)に接することとなる。

請求項（抜粋）：

金属に炭素が固溶した固溶体が形成可能な固溶温度への加熱を行って、当該固溶体からなる固溶体層を基板上に形成する形成工程、 前記固溶温度への加熱を維持したまま前記固溶体層から前記金属を除去する除去工程 を備えることを特徴とするグラフェンの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (17件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01B ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146BA01 ,  4G146BA08 ,  4G146BA48 ,  4G146BC02 ,  4G146BC08 ,  4G146BC22 ,  4G146BC25 ,  4G146BC29 ,  4G146BC43 ,  4G146CA08 ,  4G146CA10 ,  4G146CA13