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J-GLOBAL ID：201502266353105930   整理番号：15A0541890

Silicalite-1膜のxylene蒸気透過分離特性と成長過程

著者 (7件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  金子拓矢 (早大 先進理工) ,  飯島優貴 (早大 先進理工) ,  戸巻佳祐 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研) ,  松方正彦 (JST-CREST)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会年会(CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.B208  発行年： 2015年03月19日 
JST資料番号： X0547B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 合成ゼオライト ,  *二酸化ケイ素 ,  *膜分離 ,  アルキルベンゼン ,  水熱合成 ,  *細孔構造 ,  透過率 ,  吸着 ,  結晶方位 ,  結晶化 ,  *結晶成長 ,  キシレン ,  シリカ膜
準シソーラス用語： シリカ ,  結晶配向

分類 (1件)： 吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (1件)： p-キシレン

タイトルに関連する用語 (4件)： 蒸気 ,  透過 ,  分離特性 ,  成長過程