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J-GLOBAL ID：201602231484843650   整理番号：16A0401568

キシレン由来の熱分解炭素を用いたsilicalite-1膜のミクロ細孔径制御

著者 (5件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  戸巻圭祐 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研) ,  松方正彦 (JST-CREST)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会年会(CD-ROM))
巻： 81st  ページ： ROMBUNNO.ZBA308  発行年： 2016年03月13日 
JST資料番号： X0547B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： アルキルベンゼン ,  *炭素材 ,  細孔径 ,  膜分離 ,  シリカライト ,  *薄膜 ,  炭化水素 ,  キシレン ,  *熱分解炭素 ,  シリカライト-1 ,  *ゼオライト膜

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： キシレン ,  熱分解炭素 ,  細孔径