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J-GLOBAL ID：201602246696499930   整理番号：16A1069879

重イオンビームのエネルギー付与特性を利用したナノ空間制御材料の創製

著者 (6件)： 鷲尾方一 (早大 理工研) ,  大島明博 (大阪大 産科研) ,  濱義昌 (早大 理工研) ,  坂上和之 (早大 理工研) ,  岡壽崇 (東北大 高等教育開発推進セ) ,  村上健 (放医研)
資料名： NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences)  (NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences))
号： 285  ページ： 182-183  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： Z0881A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 主に電子ビームとイオンビームの複合照射により誘起されるラジカルを利用し,ナノ空間制御を行ったフッ素系の機能性電解質膜の合成を試みた。フッ素系高分子(PFAとFEP)に予め超低エネルギーの電子ビームを照射し,その後各種イオンビームを室温真空中で照射した。表面層の機能か領域を最適化するために,電子ビームのエネルギーを変えて照射した。電子ビーム/イオンビーム複合照射後の表面をレーザ顕微鏡で観察した。電子エネルギーが高いほど,凹凸が小さく平滑化されることが分かった。親水部は50keVでは表面から30μm程度,80keVでは60μm程度であった。

シソーラス用語： *重イオン照射 ,  重イオンビーム ,  エネルギー移動 ,  空間 ,  電子ビーム ,  *電子照射 ,  *電解質 ,  *膜 ,  機能材料 ,  ナノ空間 ,  *電解質膜
準シソーラス用語： エネルギー付与

分類 (1件)： 放射線化学反応  (CB09020M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 重イオンビーム ,  エネルギー付与 ,  ナノ空間 ,  創製