イソブチレンの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人アスフィ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-089804
公開番号（公開出願番号）：特開2020-186177
出願日： 2019年05月10日
公開日（公表日）： 2020年11月19日
要約：

【課題】本発明は、前記従来技術の課題を背景になされたものであり、低温高活性の脱水素触媒を用いて比較的低温でイソブタンからイソブチレンを経済的に有利な条件下で製造できる方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明に係るイソブタンの直接脱水素によるイソブチレンの製造方法は、白金および鉄が担持されたゼオライトを含有する脱水素触媒が充填された触媒層に、イソブタンを含有する気体原料を流通させる工程を含むことを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

イソブタンの直接脱水素によるイソブチレンの製造方法であって、白金および鉄が担持されたゼオライトを含有する脱水素触媒が充填された触媒層に、イソブタンを含有する気体原料を流通させる工程を含むことを特徴とするイソブチレンの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 5/333 , B01J 29/14 , B01J 29/76 , C07C 11/09 , B01D 71/02 , B01D 69/02

FI (6件)：

C07C5/333 , B01J29/14 Z , B01J29/76 Z , C07C11/09 , B01D71/02 500 , B01D69/02

Fターム (54件)：

4D006GA41 , 4D006HA21 , 4D006MA02 , 4D006MA06 , 4D006MA21 , 4D006MB03 , 4D006MC03X , 4D006NA45 , 4D006NA49 , 4D006NA50 , 4D006NA62 , 4D006PB66 , 4D006PB68 , 4D006PC80 , 4G169AA03 , 4G169BA07A , 4G169BA07B , 4G169BB02A , 4G169BB02B , 4G169BC02B , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC75A , 4G169BC75B , 4G169CB07 , 4G169CB63 , 4G169DA06 , 4G169DA10 , 4G169EA02Y , 4G169EB18Y , 4G169EC17Y , 4G169FA01 , 4G169FA02 , 4G169FB30 , 4G169FB44 , 4G169FB64 , 4G169FB77 , 4G169FC08 , 4G169ZA04B , 4G169ZA19B , 4G169ZA32B , 4G169ZF05A , 4G169ZF05B , 4H006AA02 , 4H006AB84 , 4H006AC12 , 4H006AD19 , 4H006BA18 , 4H006BA26 , 4H006BA55 , 4H006BC10 , 4H006BC32 , 4H039CA29 , 4H039CC10

引用特許：

審査官引用 (4件)

硫黄耐性の二金属性ゼオライトリフォ-ミング触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-191831 出願人：サンカンパニ-インコ-ポレイテッド(ア-ルアンドエム), エ-ルユニバ-シティ-
炭化水素類の脱水素方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-031314 出願人：日本石油株式会社, 三菱化工機株式会社
DDR型ゼオライト膜、ガス分離方法及びガス分離装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-323696 出願人：日本碍子株式会社

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