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J-GLOBAL ID:202102213152600471   整理番号:21A0696115

NVセンターの多量子ビット化のための高窒素含有有機化合物イオン注入法の高度化

Improvement of nitrogen-enriched implantation for creation of multi-qubits composed of NV centers
著者 (10件):
資料名:
巻: 81st  ページ: ROMBUNNO.8p-Z05-12  発行年: 2020年08月26日 
JST資料番号: Y0055B  ISSN: 2758-4704  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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【はじめに】ダイヤモンド中の窒素・空孔(NV)センターは、室温で優れた磁気光学特性を持つ量子ビットとして知られている。NVセンター同士を多量子ビット化する方法の1つとして、窒素(N)イオン注入法があげられる。ダイヤモンド上に電子線描画法で穴...【本文一部表示】
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分類 (2件):
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半導体の格子欠陥  ,  炭素とその化合物 
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