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J-GLOBAL ID：202302232972663506   整理番号：23A0793628

欠陥導入Hf-MOFを用いた光触媒的過酸化水素生成

著者 (6件)： 近藤吉史 (大阪大) ,  本田虎太郎 (大阪大) ,  桑原泰隆 (大阪大) ,  桑原泰隆 (JST-さきがけ) ,  森浩亮 (大阪大) ,  山下弘巳 (大阪大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集(CD-ROM)
巻： 130th  ページ： ROMBUNNO.2F08  発行年： 2022年09月13日 
JST資料番号： S0874B  ISSN： 2758-3503  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ハフニウム酸化物クラスターと2-アミノテレフタレートから構成されるHf-UiO-66-NH₂に構造欠陥を導入した光触媒を用いて,可視光照射下での過酸化水素生成(H₂O₂)反応を行った.構造欠陥を導入することにより,H₂O₂生成量が増加することが分かった.さらに構造欠陥導入と助触媒の担持を組み合わせることで,H₂O₂生成量が大幅に向上することを見出した.(著者抄録)

シソーラス用語： *過酸化水素 ,  *配位高分子 ,  多孔質体 ,  クラスタ分子 ,  *酸化ハフニウム ,  光触媒 ,  触媒活性 ,  *光触媒反応 ,  助触媒 ,  ニッケル触媒 ,  格子欠陥 ,  担持触媒 ,  *MOF【配位高分子】 ,  光触媒活性 ,  脂肪酸 ,  薬物

著者キーワード (3件)： 金属有機構造体 ,  過酸化水素 ,  構造欠陥

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

物質索引 (2件)： 2-アミノテレフタラート ,  酢酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 欠陥 ,  HF ,  MOF ,  光触媒 ,  過酸化水素