文献
J-GLOBAL ID：200902148930861056   整理番号：99A0974881

極薄シリコン酸化膜中のトラップ生成に関する原子スケールでの評価

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0974881&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}
著者 (4件)：
大毛利健治

大毛利健治 について

(名古屋大)

名古屋大 について

, 
酒井朗

酒井朗 について

(名古屋大)

名古屋大 について

, 
財満鎮明

財満鎮明 について

(名古屋大)

名古屋大 について

, 
安田幸夫

安田幸夫 について

(名古屋大)

名古屋大 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 60th  号： 2  ページ： 664  発行年： 1999年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
シリコン酸化膜

シリコン酸化膜 について

, 
トラップ

トラップ について

, 
原子スケール

原子スケール について

, 
評価

評価 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM